特許
J-GLOBAL ID：200903033795310321

コーティング組成物、多孔質シリカ質膜、多孔質シリカ質膜の製造方法及び半導体装置

発明者：
青木 倫子

青木 倫子 について

, 
青木 宏幸

青木 宏幸 について


出願人/特許権者：
クラリアント ジャパン 株式会社

クラリアント ジャパン 株式会社 について


代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-126381
公開番号（公開出願番号）：特開2004-331733
出願日： 2003年05月01日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】機械的強度の高い、層間絶縁膜に有用な低誘電率多孔質シリカ質膜を提供すること。【解決手段】有機溶媒中に、1)ポリアルキルシラザン、並びに2)アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体からなる群より選ばれた少なくとも一種の有機樹脂成分を含んで成り、該有機樹脂成分の少なくとも一種に含まれる側基の少なくとも一部に-COOH基及び/又は-OH基が含まれることを特徴とするコーティング組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
有機溶媒中に、 1)ポリアルキルシラザン、並びに 2)アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体からなる群より選ばれた少なくとも一種の有機樹脂成分 を含んで成り、該有機樹脂成分の少なくとも一種に含まれる側基の少なくとも一部に-COOH基及び/又は-OH基が含まれることを特徴とするコーティング組成物。
IPC (4件)：
C09D133/06 ,  C09D1/00 ,  C09D183/16 ,  H01L21/316
FI (4件)：
C09D133/06 ,  C09D1/00 ,  C09D183/16 ,  H01L21/316
Fターム (27件)：
4J038AA011 ,  4J038CG031 ,  4J038CG041 ,  4J038DL171 ,  4J038GA03 ,  4J038GA06 ,  4J038HA446 ,  4J038MA14 ,  4J038NA21 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AC04 ,  5F058AD05 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BC05 ,  5F058BD04 ,  5F058BD07 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BH03 ,  5F058BJ02
引用特許：
審査官引用 (3件)

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