特許

J-GLOBAL ID：200903033797918670

レーザ加工装置

発明者： 赤羽 隆之
出願人/特許権者： オリンパス株式会社
代理人 (6件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫 ,  増井 裕士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-059049
公開番号（公開出願番号）：特開2008-221237
出願日： 2007年03月08日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：

【課題】レーザ加工装置において、オープン欠陥を迅速に修復し、欠陥修正を効率的に行うことができるようにする。【解決手段】レーザ加工装置50を、撮像部、欠陥検出部、レーザ光源1、空間変調素子6、空間変調素子6によって反射されたオン光32を被加工面11aに導く対物レンズ10、対物レンズ移動機構15、転写用薄膜が形成された転写用基板41、転写用基板41を被加工面11aと対物レンズ10との間の光路上において光軸に沿う方向および直交する方向にそれぞれ位置移動可能、かつ光路に対して進退移動可能に保持する転写用基板移動機構43、およびオープン欠陥の部分にオン光32を照射する変調データを生成する変調データ生成部を備え、変調データに基づくオン光32を転写用薄膜上に結像し、転写用薄膜をオープン欠陥上に転写して、オープン欠陥を修復できるように構成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

層形成物質により層状のパターンが形成された被加工面の画像を撮像する撮像部と、該撮像部によって撮像された前記被加工面の画像から、前記被加工面のパターンの一部が欠落したオープン欠陥と前記被加工面のパターン同士が接触したショート欠陥とを区別して欠陥を検出し、該欠陥の位置、形状の情報を含む欠陥情報を取得する欠陥検出部とを有するレーザ加工装置であって、 前記層形成物質を蒸発または昇華可能なレーザ光を発生するレーザ光源と、 該レーザ光源から出射されたレーザ光を空間変調する空間変調素子と、 該空間変調素子によって一定方向に向けて反射されたレーザ光を被加工面に導く結像光学系と、 該結像光学系の結像位置を前記被加工面の近傍の光軸方向に移動する結像位置移動機構と、 ガラス基板上に前記層形成物質からなる転写用薄膜が形成された転写用基板と、 該転写用基板を、前記転写用薄膜を前記被加工面側に向けた状態で、前記被加工面と前記結像光学系との間の光路上において前記結像光学系の光軸に沿う方向および直交する方向にそれぞれ位置移動可能、かつ前記光路に対して進退移動可能に保持する転写用基板移動機構と、 前記欠陥検出部によって検出された前記オープン欠陥の欠陥情報に基づいて、前記オープン欠陥の部分に前記レーザ光を照射するための前記空間変調素子の変調データを生成する変調データ生成部とを備え、 前記転写用基板上の前記転写用薄膜の未転写領域を前記被加工面近傍の前記オープン欠陥上に移動し、前記変調データ生成部によって生成された変調データに基づいて空間変調されたレーザ光を前記転写用薄膜上に結像し、前記レーザ光の照射部分の前記層形成物質を前記オープン欠陥上に転写して、前記オープン欠陥を修復できるようにしたことを特徴とするレーザ加工装置。

IPC (7件)：

B23K 26/00 ,  G02F 1/13 ,  B23K 26/02 ,  H05K 3/22 ,  H05K 3/00 ,  G02F 1/134 ,  G09F 9/00

FI (8件)：

B23K26/00 H ,  G02F1/13 101 ,  B23K26/02 A ,  H05K3/22 D ,  H05K3/22 E ,  H05K3/00 N ,  G02F1/1343 ,  G09F9/00 352

Fターム (28件)：

2H088FA13 ,  2H088FA14 ,  2H088FA15 ,  2H088FA30 ,  2H092MA35 ,  2H092MA48 ,  2H092MA52 ,  2H092MA55 ,  2H092NA29 ,  2H092NA30 ,  4E068AE00 ,  4E068CA09 ,  4E068CA11 ,  4E068CA14 ,  4E068CB02 ,  4E068CC02 ,  4E068CE09 ,  4E068DA09 ,  5E343AA02 ,  5E343BB71 ,  5E343ER51 ,  5E343FF08 ,  5E343FF21 ,  5G435AA17 ,  5G435AA19 ,  5G435BB12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭63-133549号公報