特許
J-GLOBAL ID:200903033806238091
電子透かし埋め込み装置及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
伊東 忠彦
, 石原 隆治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-188011
公開番号(公開出願番号):特開2008-017289
出願日: 2006年07月07日
公開日(公表日): 2008年01月24日
要約:
【課題】透かし強度と画質劣化の関係が逆転することなく、適切な電子透かし埋め込み制御を実現する。【解決手段】本発明は、原画像と透かし情報が入力されると、該透かし情報の該原画像への電子透かし埋め込みによって該原画像に与えられる画素値の変更量を表す透かしパターンを生成し、RGB成分毎の画素値変更量であるRGB基準変更量が格納されている基準変更量記憶手段を参照して、透かしパターンの原画像への重畳の際に生じる量子化による透かし埋め込み対象色成分の誤差が小さくなるように該透かしパターンを変更して変更済み透かしパターンを生成し、変更済み透かしパターンを原画像に重畳して透かし入り画像を出力する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
カラー画像に電子透かしを埋め込む電子透かし埋め込み装置であって、
原画像のデータフォーマットで用いられる表色系の各色成分に対する基準変更量を格納する基準変更量記憶手段と、
原画像と透かし情報が入力されると、該透かし情報の該原画像への電子透かし埋め込みによって該原画像に与えられる画素値の変更量を表す透かしパターンを生成する透かしパターン生成手段と、
前記基準変更量記憶手段の基準変更量を参照して、前記透かしパターンの前記原画像への重畳の際に生じる量子化による透かし埋め込み対象色成分の誤差が小さくなるように該透かしパターンを変更して変更済み透かしパターンを生成する透かしパターン変更手段と、
前記変更済み透かしパターンを前記原画像に重畳して透かし入り画像を出力する透かしパターン重畳手段と、
を有することを特徴とする電子透かし埋め込み装置。
IPC (3件):
H04N 1/387
, G06T 1/00
, H04N 7/26
FI (3件):
H04N1/387
, G06T1/00 500B
, H04N7/13 Z
Fターム (27件):
5B057CA01
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA19
, 5B057CB01
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB19
, 5B057CE08
, 5B057CH07
, 5C059KK02
, 5C059KK43
, 5C059MA00
, 5C059MB14
, 5C059PP01
, 5C059PP04
, 5C059PP15
, 5C059PP16
, 5C059RC35
, 5C059TA00
, 5C059TB08
, 5C059TC02
, 5C059TC43
, 5C059TD03
, 5C059TD11
, 5C059UA31
, 5C076AA14
引用特許:
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