特許

J-GLOBAL ID：200903033808451655

化学蒸着装置

発明者： グレイリィ,アリグザンダー,アイ. ,  ストール,リチャード,エー. ,  カーリセック,ロバート,エフ.,ジュニア ,  ザワヅキィ,ピーター ,  サラガジュ,トマス
出願人/特許権者： エムコア・コーポレイション
代理人 (1件)： 藤井 紘一 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-524855
公開番号（公開出願番号）：特表2001-506803
出願日： 1997年11月24日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】基板にエピタキシャル層を成長させる反応器が開示されており、反応器は、回転自在の基板キャリヤ(22)と、キャリヤの基板へ向けて気体を反応器に噴射するインジェクタ(12)とを有するとともに、気体の入口(4、5、6、7)とインジェクタとの間で種々の気体を個別に保持する気体セパレータ(9)を有する。取り外し自在の冷却チャンネル(14)と、冷却チャンネル(14)を有する特定のインジェクタ(12)とを備えるとともに、インジェクタから基板への気体の流れを制限するように反応器に配設された制流体(21)と、回転自在のシェルに内設されたヒータ(3)とを有し、反応器の壁を形成する蓋(36)を介してヒータにアクセスすることができるとともにヒータを取り出すことができるように構成された反応器の種々の実施の形態が開示されている。

請求項（抜粋）：

反応器室と、該反応器室内に回転自在に取着された基板キャリヤとを備え、基板の少なくとも1つを前記基板キャリヤに取着することができ、更に第1の気体の入口と、第2の気体の入口と、前記第1と第2の気体を前記基板キャリヤへ向けて前記反応器室に噴射するインジェクタとを備えた、基板にエピタキシャル層を成長させる反応器であって、前記気体の入口と前記インジェクタとの間の前記基板と平行する1つの面内にかつ前記気体が前記基板キャリヤに近づくまで前記第1と第2の気体を個別に保持する気体セパレータを備えることを特徴とする反応器。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/455

FI (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/455