特許

J-GLOBAL ID：200903033809957005

フッ化物添加剤を含む化学的・機械的研磨用スラリーとその使用方法

発明者： クリストファー シー.ストレインツ ,  ブリアン エル.ミューラー ,  マイケル エー.ルカレリ ,  マックス エイチ.ウォルターズ
出願人/特許権者： キャボット コーポレイション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-147688
公開番号（公開出願番号）：特開平10-067986
出願日： 1997年06月05日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 集積回路や半導体の製造工程において、製品に欠損や損傷を与えることなく従来よりはるかに高い速度でチタンを研磨することができ、タングステンと窒化チタンの高い研磨速度を保持し、SiO2 については低い研磨速度を呈する化学的・機械的研磨用スラリーを提供する。【解決手段】 酸化剤、研磨剤、及びフッ化物含有添加剤を含んでなる水系の化学的・機械的研磨用スラリー。好ましくは、約0.01〜約2.0重量%のフッ化物含有添加剤を含み、フッ化物含有添加剤が、フッ化物含有酸、フッ化物塩から選択される。好ましくは、フッ化物含有添加剤はフッ化水素酸、フルオロケイ酸、フルオロチタン酸から選択され、フッ化物含有酸は約0.01〜約0.3重量%の範囲の量で存在し、フッ化物塩はフッ化アンモニウム、フッ化カリウム、二フッ化水素アンモニウム、二フッ化水素カリウムから選択される。

請求項（抜粋）：

(a) 酸化剤、(b) 研磨剤、及び(c) フッ化物含有添加剤を含んでなることを特徴とする水系の化学的・機械的研磨用スラリー。

IPC (4件)：

C09K 13/04 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  H01L 21/304 321

FI (4件)：

C09K 13/04 ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  H01L 21/304 321 P

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭50-099684
  
• 絶縁膜の平坦化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-051260   出願人：川崎製鉄株式会社