特許
J-GLOBAL ID:200903033810830531

ポリマーストライプ形導波路の製造方法及び導波路層のパターン化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宇井 正一 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-101880
公開番号(公開出願番号):特開平6-118258
出願日: 1993年04月06日
公開日(公表日): 1994年04月28日
要約:
【要約】【目的】 分極ポリマーストライプ形導波路の製造方法を提供する。【構成】 該方法は、ポリマー導波路ブランクを製作する工程と、そのポリマー導波路ブランクを電場ポーリングする工程と、そして導波路ブランク内のストライプ形導波路の輪郭を光融蝕する工程とを含んで成る。本発明は、受動ポリマーストライプ形導波路の製造方法、並びに本発明の方法によって製作される非線形光学及び受動導波路も提供する。
請求項(抜粋):
プレーナー形ポリマー導波路ブランクを製作する工程、及び前記導波路ブランク内のストライプ形導波路の輪郭を光融蝕する工程、を含んで成るポリマーストライプ形導波路の製造方法。

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