水処理システム

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：安形雄三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-170437
公開番号（公開出願番号）：特開平9-001131
出願日： 1995年06月14日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【目的】広範囲な種類の水に対して汎用的に適用でき、多様な汚染物質に対して安定した処理能力を維持させ、システムは極めてシンプルであり、しかもランニングコストが廉価で済む水処理システムを提供する。【構成】イオン交換剤・吸着剤、凝集剤、酸化剤、中和剤、還元剤の少なくとも1つを所定の比率で原水に添加して撹拌する撹拌水槽、及び前記撹拌水槽からの撹拌水を受け入れてイオン交換反応及び凝集・沈殿作用により汚染物質をスラッジとして底部に溜める凝集・沈殿槽から成る水処理槽とその後段に乾燥或いは焼成加工し精製したゼオライトを充填させて、原水に接触反応させる接触反応槽を接続して水処理させることを特徴とする水処理システム。

請求項（抜粋）：

イオン交換剤・吸着剤、凝集剤、酸化剤、中和剤、還元剤の少なくとも1つを所定の比率で原水に添加して撹拌する撹拌水槽、及び前記撹拌水槽からの撹拌水を受け入れてイオン交換反応及び凝集・沈殿作用により汚染物質をスラッジとして底部に溜める凝集・沈殿槽から成る水処理槽を1もしくは複数設け、時系列的に処理させることを特徴とする水処理システム。

IPC (13件)：

C02F 1/28 , B01D 21/02 , B01D 21/08 , C02F 1/42 , C02F 1/52 , C02F 1/66 510 , C02F 1/70 , C02F 1/72 , C02F 1/78 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503 , C02F 9/00 504

FI (18件)：

C02F 1/28 A , C02F 1/28 E , B01D 21/02 E , B01D 21/08 A , C02F 1/42 C , C02F 1/52 Z , C02F 1/66 510 K , C02F 1/70 Z , C02F 1/72 Z , C02F 1/78 , C02F 9/00 502 J , C02F 9/00 502 H , C02F 9/00 502 P , C02F 9/00 502 R , C02F 9/00 502 Z , C02F 9/00 503 Z , C02F 9/00 504 B , C02F 9/00 504 E

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