特許

J-GLOBAL ID：200903033820610262

表面マイクロマシンおよびその製造方法

発明者： 峠 宗志
出願人/特許権者： アイシン精機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-214409
公開番号（公開出願番号）：特開2000-049358
出願日： 1998年07月29日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】 構造体の状態を外観視でき、従来に比べ膜厚を小さくし、2軸の検出が可能なものとする。【解決手段】 基板1上に一定の空隙をもって設けられた構造体5と、構造体5に対向して設けられ構造体5の変位を検出するかまたは電圧を印加して構造体5の変位を調整する電極とを備えた表面マイクロマシンにおいて、電極は構造体5の両側に第1電極4と第2電極6をもち、第1および第2電極4,6と構造体5は基板1に対して垂直方向に階段状となるようにした。

請求項（抜粋）：

基板上に一定の空隙をもって設けられた構造体と、該構造体に対向して設けられ前記構造体の変位を検出するかまたは電圧を印加して前記構造体の変位を調整する電極とを備えた表面マイクロマシンにおいて、前記電極は前記構造体の両側に第1電極と第2電極をもち、該第1および第2電極と前記構造体は前記基板に対して垂直方向に階段状となっていることを特徴とする表面マイクロマシン。

IPC (3件)：

H01L 29/84 ,  G01C 19/56 ,  G01P 9/04

FI (3件)：

H01L 29/84 Z ,  G01C 19/56 ,  G01P 9/04

Fターム (16件)：

2F105BB12 ,  2F105BB15 ,  2F105CC04 ,  2F105CD03 ,  2F105CD05 ,  2F105CD11 ,  2F105CD13 ,  4M112AA02 ,  4M112BA07 ,  4M112CA22 ,  4M112CA26 ,  4M112CA31 ,  4M112CA36 ,  4M112DA04 ,  4M112EA04 ,  4M112GA03