オゾンを処理対象の流体、特に水、と接触させる方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本亮一 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-545138
公開番号（公開出願番号）：特表2001-523154
出願日： 1998年04月07日
公開日（公表日）： 2001年11月20日
要約：

【要約】流体、特に水、をオゾンによって処理するために、オゾン発生器(14)、及び処理対象の流体にオゾンを溶解するための、単相液体条件のもとで操業するプラグ流れ反応器から成るタイプの、U字管のような装置(21)を使って、オゾンを流体、特に水、と接触させる方法において、前記方法が、前記オゾン発生器(14)によって発生するオゾン化されたガスを圧力のもとで処理対象の流体の流れに注入することにあり、この注入は、ガスの微細気泡を得るように行なわれることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

流体、特に水、をオゾンによって処理するために、オゾン発生器(14)、及び処理対象の流体にオゾンを溶解するための、単相液体条件のもとで操業するプラグ流れ反応器から成るタイプの、U字管のような装置(21)を使って、オゾンを流体、特に水、と接触させる方法において、前記方法が、前記オゾン発生器(14)によって発生するオゾン化されたガスを圧力のもとで処理対象の流体の流れに注入することにあり、この注入は、ガスの微細気泡、即ちオゾン化されたガスが処理対象の流体に注入されたのち、直径が10μmと500μmの間の気泡、を得るように実施されることを特徴とする前記方法。

IPC (3件)：

C02F 1/78 , B01F 1/00 , B01F 3/04

FI (3件)：

C02F 1/78 , B01F 1/00 A , B01F 3/04 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

高濃度オゾン水製造方法及び高濃度オゾン水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-053982 出願人：長廣仁蔵
特表平1-502650
特開平2-214594

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