特許
J-GLOBAL ID:200903033833765052

ガス浸硫窒化処理方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小塩 豊
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-111451
公開番号(公開出願番号):特開平10-306364
出願日: 1994年05月25日
公開日(公表日): 1998年11月17日
要約:
【要約】【目的】 窒素化合物層に脆弱な多孔質層を生成させることなく、被処理品の表面に緻密な窒素化合物層や窒素拡散硬化層を潤滑性に富む浸硫層と共に安定して生成させることができ、初期摩耗量を減少させ、耐磨耗性,耐焼付性などの大幅な改善が可能なガス浸硫窒化処理方法および装置を提供する。【構成】 NH3 -N2 に少量の硫化水素を添加した浸硫窒化雰囲気ガス中において、雰囲気ガス成分を制御しつつ、被処理品を窒素化合物の生成しにくい低温で窒化させたのち、必要に応じてNH3 の供給を中断すると共に昇温して窒素を内部拡散させる。
請求項(抜粋):
窒化雰囲気ガスにガス状の硫化物を添加した浸硫窒化雰囲気中において、被処理品を所定温度に保持すると共に、雰囲気を制御し、処理品の表面に緻密な窒素化合物層および窒素拡散硬化層を生成させ、さらにその上に浸硫層を生成させることを特徴とするガス浸硫窒化処理方法。
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開平4-228557
  • 特開平3-105194
  • 特開昭60-039155
審査官引用 (5件)
  • 特開平4-228557
  • 特開平4-228557
  • 特開昭60-039155
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