特許

J-GLOBAL ID：200903033841300018

マスク保護装置、マスク、ガス置換装置、露光装置、ガス置換方法及び露光方法

発明者： 青木 貴史
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-046024
公開番号（公開出願番号）：特開2004-258113
出願日： 2003年02月24日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】保護装置とマスク基板との間に形成される空間内のガスを効率良く安定して置換することができるマスク保護装置、マスク、ガス置換装置及び露光装置を提供する。【解決手段】一端部がマスク基板P上のパターン形成領域PAの周辺に設けられる枠部材Fと、枠部材Fの他端部に設けられ、パターン形成領域PAを保護するための保護部材Cとを備えたマスク保護装置PEにおいて、枠部材Fに形成され、枠部材Fの他端部の端面から枠部材Fの内面に連通する第1貫通孔hを備えるようにした。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

一端部がマスク基板上のパターン形成領域の周辺に設けられる枠部材と、前記枠部材の他端部に設けられ、前記パターン形成領域を保護するための保護部材とを備えたマスク保護装置において、 前記枠部材に形成され、前記枠部材の他端部の端面から前記枠部材の内面に連通する第1貫通孔を備えることを特徴とするマスク保護装置。

IPC (3件)：

G03F1/14 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F1/14 K ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 515Z

Fターム (11件)：

2H095BB31 ,  2H095BC38 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB17 ,  5F046CD02 ,  5F046CD04 ,  5F046CD10 ,  5F046DA27