特許

J-GLOBAL ID：200903033843338721

高分子合成方法

発明者： 関 建司 ,  藤原 正隆 ,  蒲池 幹治 ,  森 和亮 ,  梶原 篤
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-024266
公開番号（公開出願番号）：特開平8-217811
出願日： 1995年02月13日
公開日（公表日）： 1996年08月27日
要約：

【要約】【目的】 比較的分子量分布を狭く抑えることができるとともに、重合速度も速く、立体規則性の高いポリマーを得ることができる高分子合成方法を得る。【構成】 一次元のチャネル構造を有する有機金属錯体に、モノマーを吸着させ、吸着された前記モノマーに放射線を照射して、ポリマーを得る。

請求項（抜粋）：

一次元のチャネル構造を有する有機金属錯体に、モノマーを吸着させ、吸着された前記モノマーに放射線を照射して、ポリマーを得る高分子合成方法。

IPC (4件)：

C08F 2/46 MDT ,  C08F 2/44 MCR ,  C08F 4/42 MEZ ,  C08F 4/42 MFC

FI (4件)：

C08F 2/46 MDT ,  C08F 2/44 MCR ,  C08F 4/42 MEZ ,  C08F 4/42 MFC