特許
J-GLOBAL ID：200903033846296507
基板洗浄方法および機能性基板
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
米田 潤三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-162083
公開番号（公開出願番号）：特開2002-355621
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：
【要約】【課題】 基板に悪影響を及ぼすことなく洗浄剤の残留を極めて低いものとすることができる基板洗浄方法と、機能部材の機能発現に支障のあるような汚染イオンがほとんど存在しない機能性基板を提供する。【解決手段】 洗浄剤を用いて洗浄した後の純水洗浄の条件を、洗浄剤を用いた洗浄後の基板上に残留する洗浄剤の特定成分の陰イオン強度A、基板に対して純水洗浄を施した後の基板上に残留する上記特定成分の陰イオン強度Bから、B≦1.0×10-3Aの関係が成立するように設定することにより本発明の基板洗浄方法とし、本発明の機能性基板は、基板上に機能部材を形成した後、本発明の基板洗浄方法によって洗浄処理が施されたものとする。
請求項（抜粋）：
洗浄剤を用いた洗浄後に純水洗浄を行う基板の洗浄方法において、洗浄剤を用いて洗浄した後の該基板上に残留する洗浄剤の特定成分の陰イオン強度をAとし、前記基板に対して純水洗浄を施した後の該基板上に残留する前記特定成分の陰イオン強度をBとしたときに、B≦1.0×10-3Aの関係が成立するように純水洗浄の条件を設定することを特徴とした基板洗浄方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B08B 3/04 Z
, G01N 23/225
2G001AA05
, 2G001BA06
, 2G001CA05
, 2G001EA04
, 2G001FA02
, 2G001KA01
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 3B201AA02
, 3B201BB02
, 3B201BB93
, 3B201CC01
, 3B201CC11
, 3B201CD41
