特許

J-GLOBAL ID：200903033852363372

光導波路の製造方法

発明者： 岡部 豊
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-230544
公開番号（公開出願番号）：特開平11-064664
出願日： 1997年08月27日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 従来のリッジ構造を持つ導波路型光制御デバイスでは、導波路とクラッド層との屈折率差が大きいため、散乱損失が大きくなっていた。【解決手段】 基板(リチウムナイオベイト基板)11上にリッジ状の導波路15を形成する工程と、ゾル-ゲル法によりリッジ状の導波路15上を覆う状態にリチウムタンタルナイオベイトからなるクラッド層16を形成する工程とを備えた光導波路の製造方法である。

請求項（抜粋）：

リチウムナイオベイト基板上にリッジ状の導波路を形成する工程と、ゾル-ゲル法により前記導波路上を覆う状態にリチウムタンタルナイオベイトからなるクラッド層を形成する工程とを備えたことを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 6/13 ,  C01D 15/00 ,  C01G 35/00 ,  G02B 6/12

FI (4件)：

G02B 6/12 M ,  C01D 15/00 ,  C01G 35/00 C ,  G02B 6/12 N