特許

J-GLOBAL ID：200903033853854000

光導波路素子およびその製造方法

発明者： 近藤 充和 ,  土屋 治彦
出願人/特許権者： 株式会社トーキン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-158485
公開番号（公開出願番号）：特開平11-337892
出願日： 1998年05月22日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】 変調効率とY分岐結合部の光損失のどちらも改善された光導波路素子を提供するとともに、位相シフト光導波路を導波する二つの光の間の位相差を制御した光導波路素子の製造方法を示すこと。【解決手段】 基板42の表面に位相シフト光導波路23,24およびその近傍に変調電極25が形成された素子5と、Y分岐結合部28,29を有する光導波路が基板43の表面に形成された素子6の、複数から構成され、これらの複数の素子が同一平面上で接合され、光導波路が結合されている光導波路素子1である。また、Y分岐結合部28,29で分岐された、一方の光導波路を紫外線照射することによって、光学バイアスを制御した光導波路素子1を製造することができる。

請求項（抜粋）：

基板上に分岐干渉型光導波路および変調電極が形成された光導波路素子において、該光導波路素子は、分割された複数の素子が同一平面上で接合され、光導波路が結合して構成されていることを特徴とする光導波路素子。

IPC (3件)：

G02F 1/035 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12

FI (3件)：

G02F 1/035 ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 J