特許

J-GLOBAL ID：200903033854054849

劈開性非晶質シリカ粒子及びその製法

発明者： 高橋 範行 ,  鷲尾 雄二 ,  亀山 東剛
出願人/特許権者： 水澤化学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-134154
公開番号（公開出願番号）：特開平9-295808
出願日： 1996年05月02日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】 極めて大きな劈開性を有し、顔料及び充填剤等として有用な劈開性非晶質シリカ粒子及びその製法を提供するにある。【解決手段】 非晶質シリカ薄層の劈開性積層体粒子から成り且つ式(1)式中、d1 は前記積層体粒子の厚みであり、d2 はこの積層体粒子を構成する非晶質シリカ薄層の厚みである、で定義される劈開性(C)が2以上であることを特徴とする劈開性非晶質シリカ粒子。

請求項（抜粋）：

非晶質シリカ薄層の劈開性積層体粒子から成り且つ式(1)式中、d1 は前記積層体粒子の厚みであり、d2 はこの積層体粒子を構成する非晶質シリカ薄層の厚みである、で定義される劈開性(C)が2以上であることを特徴とする劈開性非晶質シリカ粒子。

IPC (3件)：

C01B 33/18 ,  C08K 3/36 KAH ,  C08L101/00

FI (3件)：

C01B 33/18 E ,  C08K 3/36 KAH ,  C08L101/00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-036015