特許

J-GLOBAL ID：200903033858270015

シャンプー及び高分子化合物除去剤

発明者： 中村 正樹 ,  坂口 淳 ,  涌井 清史 ,  鹿浦 英毅 ,  上辻 利之
出願人/特許権者： 中村 正樹 ,  日宏化学薬品株式会社 ,  大鹿香料株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-122378
公開番号（公開出願番号）：特開平8-310924
出願日： 1995年05月22日
公開日（公表日）： 1996年11月26日
要約：

【要約】【構成】 水に対して難溶性又は不溶性の有機溶剤(例えば、d-リモネン、ゲラニオール、リナロール、イソドデカン)を0.5重量%〜50重量%、好ましくは1重量%〜20重量%含有するシャンプー(毛髪からの高分子化合物除去剤)。【効果】 トリートメント剤に由来して毛髪に付着した高分子化合物を容易に除去することができる。

請求項（抜粋）：

有機溶剤を0.5重量%〜50重量%含有するシャンプー。