特許

J-GLOBAL ID：200903033877343775

拡散スクラバ法による大気浄化処理装置

発明者： 田中 茂 ,  藤井 雅則 ,  飯嶋 和明
出願人/特許権者： 学校法人慶應義塾 ,  三機工業株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-044989
公開番号（公開出願番号）：特開2003-251147
出願日： 2000年10月18日
公開日（公表日）： 2003年09月09日
要約：

【要約】【課題】 低コストでエネルギー消費が少なく、継続的に使用できる循環効率的な大気浄化処理装置の開発。【構成】 平行に向き合わせた一対の平行板と、その狭い隙間に汚染空気を流し、拡散係数の小さい粒子は平行板をそのまま通過して平行板の出口から排出され、平行板の内壁面に拡散してきた汚染空気中の有害ガス成分を内壁表面で除去処理する装置において、平行板の内壁表面に光触媒からなる塗布層を設けるとともに該隙間内に光を照射できる構造としたことを特徴とする拡散スクラバ法による大気浄化処理装置。この除去処理装置は、好ましくは、空調装置の空気流路または排気ガス処理装置のガス流路に付設されて用いられる。一般家庭での可搬型空気清浄装置として使用することもできる。

請求項（抜粋）：

平行に向き合わせた一対の平行板と、その狭い隙間に汚染空気を流し、拡散係数の小さい粒子は平行板をそのまま通過して平行板の出口から排出され、平行板の内壁面に拡散してきた汚染空気中の有害ガス成分を内壁表面で除去処理する装置において、平行板の内壁表面に光触媒からなる塗布層を設けるとともに該隙間内に光を照射できる構造としたことを特徴とする拡散スクラバ法による大気浄化処理装置。

IPC (3件)：

B01D 53/86 ,  B01J 35/02 ZAB ,  F24F 7/00

FI (3件)：

B01J 35/02 ZAB J ,  F24F 7/00 A ,  B01D 53/36 J

Fターム (20件)：

4D048AA06 ,  4D048BA02X ,  4D048BA07X ,  4D048BA39X ,  4D048BA41X ,  4D048BA44X ,  4D048BB03 ,  4D048CC40 ,  4D048CC57 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA18 ,  4G069BA48A ,  4G069BB14B ,  4G069BC09B ,  4G069CA13 ,  4G069EA11 ,  4G069EE07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 大気中の窒素酸化物の除去処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-318316   出願人：学校法人慶應義塾, 三機工業株式会社
• 窒素酸化物サンプラー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-056153   出願人：株式会社島津製作所