特許

J-GLOBAL ID：200903033878616520

側壁を効果的にレーザ剥離するためにビームを斜めに回転させる方法と装置

発明者： ゲヌット メナヘム ,  リヴスヒッツ(ブヤナー)ボリス ,  テハル-ザハヴ オッファー ,  イスケヴイッチ エリーゼル
出願人/特許権者： オラミル セミコンダクター エクイプメント リミテッド
代理人 (1件)： 斎藤 侑 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-518032
公開番号（公開出願番号）：特表2000-500284
出願日： 1996年11月04日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】表面の剥離すべき側壁から被覆物質をほぼ完全に、かつ、迅速に除去する方法と装置であって、処理される表面の面に関し入射角αにて表面にレーザビームを入射させ、この角度はα>0であり、ビーム入射面の方位角を周期的に切換えるか徐々に変えることが含まれている。

請求項（抜粋）：

表面の剥離すべき側壁から被覆物質をほぼ完全に、かつ、迅速に除去する方法であって、表面におけるレーザビーム入射を処理される表面の面に関し入射角αにて行い、前記角度がα>0であり、ビーム入射面の方位角を周期的に切換えるか徐々に変えることを特徴とする方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  B23K 26/00 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/302 N ,  B23K 26/00 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 A