特許

J-GLOBAL ID：200903033889512254

フラットパネル表示装置の製造方法および製造装置

発明者： 前田 龍治 ,  上村 貢 ,  浦口 雅弘
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-266890
公開番号（公開出願番号）：特開平10-162727
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】 フラットパネル表示装置の製造において、透明基板上にパターンを繰り返し形成する際に生じる、例えば露光装置ステージ中に形成されたアラインメント光源を収納する凹部からの反射光による、露光パターンの歪みを除去する。【解決手段】 露光装置ステージに、アラインメント光源を収納した凹部を覆うように、可動シャッタを、前記ステージ主面に実質的に同一面内において移動可能なように設け、前記透明基板上に透明パターンを露光・形成する際には前記シャッタを閉じ、また前記透明基板上の不透明パターンを使ってアラインメントを行う場合に前記シャッタを開くように構成する。

請求項（抜粋）：

透明基板と、前記透明基板上に形成された透明電極パターンと、前記透明電極パターン上に形成された不透明電極パターンとを含むフラットパネル表示装置の製造方法において、前記透明基板上に透明導電膜を形成する工程と、前記透明基板を、平坦な主面と、前記主面上に形成された凹部と、前記凹部中に配設された光源と、前記主面と実質的に同一平面上で第1の状態と第2の状態の間を移動自在で、前記第1の状態で前記凹部を覆い、前記第2の状態で前記凹部を露出するシャッタとを備えたステージ上に保持する工程と、前記シャッタを前記第1の状態に設定し、前記透明導電膜を露光して、前記透明電極パターンおよびアラインメントマークパターンとを、前記透明基板上に形成する工程と、前記透明基板上に、前記透明電極パターンおよび前記アラインメントマークパターンを覆うように、不透明導電膜を形成する工程と、前記アラインメントマークパターンに対応して前記不透明導電膜中に形成されるパターンをアラインメントマークとして使い、前記透明電極パターン上に前記不透明電極パターンを形成する工程とを特徴とするフラットパネル表示装置の製造方法。

IPC (3件)：

H01J 9/02 ,  G09F 9/00 341 ,  H01J 9/14

FI (3件)：

H01J 9/02 F ,  G09F 9/00 341 ,  H01J 9/14 D