特許

J-GLOBAL ID：200903033891862912

ガリウム含有廃水の処理装置

発明者： 松本 章 ,  林 一樹
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-185363
公開番号（公開出願番号）：特開2003-001268
出願日： 2001年06月19日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：

【要約】【課題】化合物半導体のウエハー製造工場、デバイス製造工場等から排出されるガリウム含有廃水を処理して、特に希少かつ有価金属であるガリウムを余すことなく効率的に回収することができ、同時に共存するヒ素を、鉄を含んだ凝集汚泥を発生することなく除去し得るガリウム含有廃水の処理装置を提供する。【解決手段】ガリウム含有廃水中のガリウムを水酸化物とする水酸化物生成手段と、水酸化物生成手段から水酸化物含有水が導入されて水酸化物と処理水に分離する固液分離手段と、固液分離手段の後段にガリウムを吸着除去するガリウム吸着手段とを有することを特徴とするガリウム含有廃水の処理装置。

請求項（抜粋）：

ガリウム含有廃水中のガリウムを水酸化物とする水酸化物生成手段と、水酸化物生成手段から水酸化物含有水が導入されて水酸化物と処理水に分離する固液分離手段と、固液分離手段の後段にガリウムを吸着除去するガリウム吸着手段とを有することを特徴とするガリウム含有廃水の処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/62 ZAB ,  B01D 71/02 ,  C01G 15/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/44

FI (5件)：

C02F 1/62 ZAB Z ,  B01D 71/02 ,  C01G 15/00 F ,  C02F 1/28 E ,  C02F 1/44 E

Fターム (33件)：

4D006GA03 ,  4D006GA04 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA61 ,  4D006KA72 ,  4D006KB12 ,  4D006KD03 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03 ,  4D006PA03 ,  4D006PB08 ,  4D006PB27 ,  4D006PC01 ,  4D024AA04 ,  4D024AB17 ,  4D024BA18 ,  4D024BC02 ,  4D024CA01 ,  4D024DA08 ,  4D024DB05 ,  4D024DB06 ,  4D024DB20 ,  4D038AA08 ,  4D038AB70 ,  4D038AB79 ,  4D038BA04 ,  4D038BB06 ,  4D038BB13 ,  4D038BB17