特許

J-GLOBAL ID：200903033893976176

構造物およびその製造方法、構造物形成用粒子並びにその製造方法

発明者： 鳩野 広典 ,  伊藤 朋和 ,  横山 達郎 ,  吉田 篤史 ,  山口 香緒里 ,  森 勝彦 ,  清原 正勝 ,  辻道 万也 ,  麻生 雄二 ,  明渡 純 ,  安田 基
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  東陶機器株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-303343
公開番号（公開出願番号）：特開2002-206179
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】不純物金属を添加すること及び焼成することなく体積抵抗率を下げた高硬度の緻密質な塊状の構造物や被膜体を提供する。【解決手段】 Al2O3の量論組成よりもO/Al比が大きい、すなわち酸素を過剰に保有することで体積抵抗率は1013Ω・cm未満となる。このような構造物や被膜体を得るには、メカノケミカル的な方法で原料粒子の結晶界面に酸素や水酸基を吸着させてAl2O3の量論組成よりもO/Al比が大きい粒子を作製し、その粒子を用いて焼成を伴わない方法で、成形またはコーティングを行う。

請求項（抜粋）：

純度99%以上のアルミナからなり、室温での体積抵抗率が1013Ω・cm未満であることを特徴とする構造物。

IPC (2件)：

C23C 30/00 ,  C04B 35/10

FI (2件)：

C23C 30/00 C ,  C04B 35/10 Z

Fターム (15件)：

4G030AA36 ,  4G030BA02 ,  4G030BA12 ,  4G030CA01 ,  4G030CA04 ,  4K044AA01 ,  4K044AB02 ,  4K044BA13 ,  4K044BB01 ,  4K044BC14 ,  4K044CA11 ,  4K044CA13 ,  4K044CA23 ,  4K044CA51 ,  4K044CA55

引用特許：

審査官引用 (4件)

• アルミナ被覆石英ガラス及びその製造方法並びに半導体製造装置用部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-305893   出願人：東芝セラミックス株式会社
• アルミナセラミックス及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-277260   出願人：日本セメント株式会社
• 特開平4-230904
  
• 静電チャックおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-050459   出願人：太平洋セメント株式会社