特許

J-GLOBAL ID：200903033895171434

枚葉式熱処理装置

発明者： 牛川 治憲
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-085574
公開番号（公開出願番号）：特開平7-273101
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【目的】 1つの装置構成で、被処理体に対してCVD処理とウエット酸化処理を可能にする。【構成】 処理容器2内の載置部4上のウエハWは加熱ランプ11で加熱される。シャワーヘッド21の導入口25には、処理ガス導入管31と水蒸気導入管41が接続されている。処理容器2自体の内部には、流路61が形成されており、この流路61内を加熱ヒータ66で加熱された伝熱媒体が流通し、処理容器2内壁が結露温度以上に加熱される。シャワーヘッド21の支持板22と拡散板73は発熱体73によって結露温度以上に加熱される。シャワーヘッド21を通じて水蒸気を処理容器2内に導入しても、処理容器2内壁とシャワーヘッド21で結露しない。

請求項（抜粋）：

処理室内の載置手段に載置された被処理体に対して、所定の熱処理を施す如く構成された枚葉式の熱処理装置であって、前記処理室内に処理ガス及び水蒸気が夫々独立して供給自在となるように構成されると共に、前記処理を形成する処理容器自体は、その内部に伝熱媒体が流通される如く構成され、この伝熱媒体によって少なくとも処理室内壁表面が、100 ゚C以上に加熱自在となるように構成されたことを特徴とする、枚葉式熱処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/26 ,  H01L 21/324

FI (2件)：

H01L 21/31 E ,  H01L 21/26 L

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 薄膜製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-138253   出願人：株式会社東芝
• 電気的に加熱される熱供給体を充填する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-361828   出願人：ツエーンデル・フエルカウフス-・ウント・フエルヴアルトウングス・アクチエンゲゼルシヤフト
• 特開昭63-118596
  
• 特開昭63-118596