特許
J-GLOBAL ID：200903033917836281
磁気ディスク用ガラス基板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-231225
公開番号（公開出願番号）：特開平10-124841
出願日： 1997年08月27日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：
【要約】【課題】 磁気ディスクとして好適な高平坦性を有するなどの優れた品質を有するとともに、表面にレーザ光を照射することにより突起を形成させ、それをテクスチャーにできる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。【解決手段】 磁気ディスク用のガラス基板17は、レーザ光の波長266nmにおけるガラスの光の吸収係数が、20〜2000mm-1である。また、ガラスの組成は、フロート法により製造が可能なように、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化リチウムなどの成分が所定の組成を有している。そして、レーザ光の照射によりガラス基板17の表面に、凸型の突起が形成される。ガラス中の鉄の含有量とガラスの吸収係数との関係及びガラスの吸収係数と突起の高さとの関係は直線関係である。レーザ光の出力と突起の高さとの関係は、低エネルギー領域の下で指数関数の関係である。
請求項（抜粋）：
磁気記録表面側にレーザ光を照射して多数形成した突起をテクスチャーとした磁気ディスク用ガラス基板において、前記突起は凸型形状をなし、レーザ光の波長266nmにおけるガラスの光の吸収係数が、20〜2000mm-1であり、かつガラスの組成が重量基準で、酸化珪素(SiO2 ) 58〜66%、酸化アルミニウム(Al2 O3 ) 13〜19%、酸化リチウム(Li2 O) 3〜4.5%、酸化ナトリウム(Na2 O) 6〜13%、酸化カリウム(K2 O) 0〜5%、R2 O 9〜18%(但し、R2 O=Li2 O+Na2 O+K2 O)、酸化マグネシウム(MgO) 0〜3.5%、酸化カルシウム(CaO) 1〜7%、酸化ストロンチウム(SrO) 0〜2%、酸化バリウム(BaO) 0〜2%、RO 2〜10%(但し、RO=MgO+CaO+SrO+BaO)、酸化鉄(Fe2 O3 ) 0. 05〜2%、酸化チタン(TiO2 ) 0〜2%酸化セリウム(CeO2 ) 0〜2%酸化マンガン(MnO) 0〜1%但し、Fe2 O3 +TiO2 +CeO2 +MnO=0.05〜3%の範囲内にある磁気ディスク用ガラス基板。
IPC (5件)：
G11B 5/62
, C03C 3/087
, C03C 4/00
, G11B 5/84
, H01S 3/00
G11B 5/62
, C03C 3/087
, C03C 4/00
, G11B 5/84 A
, H01S 3/00
