特許
J-GLOBAL ID:200903033921144432
汚染物からの多塩素化芳香族化合物分離方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
森 義明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-191403
公開番号(公開出願番号):特開2003-001220
出願日: 2001年06月25日
公開日(公表日): 2003年01月07日
要約:
【要約】【課題】 対象汚染物質から確実に多塩素化ビフェニルを除去することができ、しかも回収された多塩素化ビフェニルの脱塩素化処理を簡単に行うことができる新しい汚染物からの多塩素化芳香族化合物分離方法を開発することにある。【解決手段】 減圧条件下で加熱することができる真空加熱装置に多塩素化芳香族化合物に汚染された有機性汚染物を入れ、前記有機性汚染物を炭化させない真空加熱条件にて多塩素化芳香族化合物を流出或いは蒸発させて有機性低温処理物にすると共に前記真空加熱装置に付属の冷却・回収装置にて、流出或いは蒸発した多塩素化芳香族化合物を冷却回収し、続いて、有機性低温処理物が炭化する真空加熱条件にて、有機性低温処理物の炭化処理を行うと共に有機性低温処理物から発生する分解成分或いは分解成分と共に多塩素化芳香族化合物を回収し、炭化物中の多塩素化芳香族化合物を基準値以下にする事を特徴とする。
請求項(抜粋):
(a) 減圧条件下で加熱することができる真空加熱装置に多塩素化芳香族化合物に汚染された有機性汚染物を入れ、前記有機性汚染物を炭化させない真空加熱条件にて多塩素化芳香族化合物を流出或いは蒸発させて有機性低温処理物にすると共に前記真空加熱装置に付属の冷却・回収装置にて、流出或いは蒸発した多塩素化芳香族化合物を冷却回収し、(b) 続いて、有機性低温処理物が炭化する真空加熱条件にて、有機性低温処理物の炭化処理を行うと共に有機性低温処理物から発生する分解成分或いは分解成分と共に多塩素化芳香族化合物を回収し、炭化物中の多塩素化芳香族化合物を基準値以下にする事を特徴とする汚染物からの多塩素化芳香族化合物分離方法。
IPC (6件):
B09B 3/00
, A62D 3/00 ZAB
, C07B 35/06
, C07B 37/06
, C07C 17/383
, C07C 25/18
FI (6件):
A62D 3/00 ZAB
, C07B 35/06
, C07B 37/06
, C07C 17/383
, C07C 25/18
, B09B 3/00 304 Z
Fターム (28件):
2E191BA13
, 2E191BB00
, 2E191BC01
, 2E191BC05
, 2E191BD11
, 4D004AA12
, 4D004AA22
, 4D004AB06
, 4D004CA25
, 4D004CA32
, 4D004CA34
, 4D004CA50
, 4D004CB50
, 4H006AA02
, 4H006AA05
, 4H006AC13
, 4H006AC26
, 4H006AD11
, 4H006BA02
, 4H006BA29
, 4H006BA32
, 4H006BC51
, 4H006BC52
, 4H006BD60
, 4H006BD70
, 4H006BD84
, 4H006BE20
, 4H006EA22
引用特許:
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