特許

J-GLOBAL ID：200903033945986906

循環流動層反応装置の操業方法

発明者： 山本 哲明 ,  江頭 達彦 ,  国友 和也
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 小堀 益
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-099808
公開番号（公開出願番号）：特開平6-306433
出願日： 1993年04月26日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：

【要約】【目的】 流動層反応装置の外部の粒子循環系のダウンカマにおける充填粒子の移動層の粒子レベルを的確に測定し管理できる手段の提供。【構成】 底部から還元ガスを導入して粒状原鉱石の流動層を形成するライザーと、同ライザーの外側においてライザー頂部から排出される粒鉱石を捕集してダウンカマを介してライザーに循環する粒体循環系とからなる循環流動層反応装置の操業方法において、循環している粒子と温度の異なるトレーサ粒子をパルス的に供給し、ダウンカマの粒子移動層の温度変化を検出し、ダウンカマの移動層における粒子レベルを検知し制御する。また、この粒子レベルの検知は、粒子循環量に対応したダウンカマの粒子移動層の温度変化を検出することによってその検知精度を上げることができる。

請求項（抜粋）：

底部から還元ガスを導入して粒状原鉱石の流動層を形成する流動層形成部と、同流動層形成部の外側において流動層形成部の頂部から排出される粒鉱石を捕集して粒子下降管を介して流動層形成部に循環供給する粒体循環系とからなる循環流動層反応装置の操業方法において、粒子下降管に充填された粒子の移動層の温度変化を検出し、同移動層における粒子レベルを検知し制御する循環流動層反応装置の操業方法。

IPC (2件)：

C21B 11/00 ,  C21B 13/00 101