特許

J-GLOBAL ID：200903033950346567

回転塗布装置

発明者： 浅見 政義 ,  小林 史和
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-141234
公開番号（公開出願番号）：特開2001-321714
出願日： 2000年05月15日
公開日（公表日）： 2001年11月20日
要約：

【要約】【課題】 塗布液として非ニュートン流体を用い、非円形の基板を用いた場合であっても基板裏面への塗布液の回り込みがなく、均一な膜厚の塗膜を形成しうる回転塗布装置を構成する。【解決手段】 基板との距離が中央部に向かって漸増する凸形状を有し、該中央部に気体導入孔12を備えた蓋体9と、側壁11と、周縁部に気体排出13口を備えた底部10とからなる容器内に基板1を収納し、該容器を基板1と同期して回転させながら塗布液7を展開して塗膜を形成する。

請求項（抜粋）：

基板中央部に塗布液を付与し、該中央部における基板の法線を軸として該基板を回転させながら、遠心力により基板表面に上記塗布液を展開させて基板全面に塗膜を形成する回転塗布装置であって、上記基板が該基板と同期回転する容器内に収納され、該容器が、中央部に向かって基板表面との距離が漸増する凸形状を有する蓋体と、側壁と、底部とから構成され、回転中心となる蓋体中央部に気体導入口を、側壁或いは底部周縁部に気体排出口をそれぞれ備えたことを特徴とする回転塗布装置。

IPC (5件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/24 301 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/24 301 K ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C

Fターム (15件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075DA08 ,  4D075DC22 ,  4D075EA31 ,  4F042EB06 ,  4F042EB24 ,  4F042EB29 ,  5F046JA07 ,  5F046JA08 ,  5F046JA10 ,  5F046JA11