特許

J-GLOBAL ID：200903033951581640

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

発明者： 小俣 雄二 ,  篠崎 俊幸 ,  浅井 弘紀
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-084264
公開番号（公開出願番号）：特開平6-301919
出願日： 1993年04月12日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：

【要約】【構成】 薄膜磁気ヘッドの磁気コアのNi-Fe合金の形成に用いるメッキ法として、矩形波のパルス電流を用い、そのメッキ電流の通電する時間の1周期にたいする時間の比率が50%以下の条件をもちいて形成させたことを特徴とした薄膜ヘッドコアの製造方法およびそのコアを用いた薄膜ヘッド。【効果】 高初透磁率を有した平滑緻密なパーマロイ軟磁性コア薄膜が得られ、出力が高く、ノイズの少ない高信頼性を有する薄膜磁気ヘッドを得ることができ、またメッキレートは通常の直流電流電着の倍以上にすることもできた。また高い透磁率の得られる膜組成の範囲が広いため、組成分布によるNi-Fe合金薄膜の磁気特性の変動も少なく、出力の高い良好な薄膜磁気ヘッドを安定して製造することができる。

請求項（抜粋）：

下部磁性層と下部磁性層上に磁気ギャップとなる非磁性絶縁層および絶縁層に上下を挟まれて設けられコイルを形成する導体層、上部磁性層、保護膜層を順次構成させた構成を基本とした薄膜磁気ヘッドの電解メッキにより形成されたNi-Fe合金からなるヘッドコアの製法であって、Ni-Feヘッドコア合金のメッキ浴として,Niの2価イオンに対するFeの2価イオンの濃度比率が1/39から1/26とし、且つメッキ電流に矩形波の一定周期のパルス電流を用い、メッキ電流を流す時間(ton)とメッキ電流を流さない時間(toff)の割合として、ton / (ton+toff)≦ 0.5であることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (4件)：

G11B 5/31 ,  C25D 3/56 ,  C25D 5/18 ,  H01F 41/26

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-359415
  
• 特開平4-063412
  
• 特開平3-226590
  
• 特開昭48-053296