特許

J-GLOBAL ID：200903033956453578

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： 阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-250484
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057822
出願日： 2001年08月21日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 高感度を有し、ラフネスが改善され、PBD安定性及びマーク検出適正に優れた電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)アルカリ可溶性樹脂、及び(c)酸による架橋する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、(a)成分がカチオン部に非イオン性のBr、I、SeまたはTeを有するオニウム塩化合物、又は、ベンゼン環上に、非イオン性のBr、I、Se又はTe、または非イオン性のBr、I、Se又はTeを含有する置換基を有するN-ヒドロキシイミドのスルホン酸エステルであることを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

少なくとも(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)アルカリ可溶性樹脂、及び(c)酸により架橋する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、(a)成分がカチオン部に非イオン性のBr、I、SeまたはTeを含有するオニウム塩化合物であることを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (13件)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB17 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17