特許
J-GLOBAL ID:200903033968444965

転写箔、画像記録体、転写箔製造方法及び画像記録体作成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鶴若 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-319068
公開番号(公開出願番号):特開2001-138674
出願日: 1999年11月10日
公開日(公表日): 2001年05月22日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】偽造、変造防止等の安全性(セキュリティ)を高めると共に、従来方式に比べてスクラッチ強度及び密着性が向上し、キズやシワの発生を防止できる。【解決手段】転写箔は、剥離層を有する支持体上に、少なくとも一般式(1)で示される単位を有する平均分子量3000〜100000のアクリル共重合体であって、一般式(1)ユニットを分子内に重量比で0.01〜5重量%以下の範囲で有し、一般式(1)より構成される樹脂の酸価(KOH/mg)が5〜200である樹脂を20〜80重量%の範囲で含む硬化層と、少なくとも前記硬化層に隣接し重合度が1000以上のポリビニルブチラール樹脂又はポリブチラールの熱硬化樹脂からなる中間層又は/及び接着層を有する。
請求項(抜粋):
剥離層を有する支持体上に、少なくとも一般式(1)で示される単位を有する平均分子量3000〜100000のアクリル共重合体であって、一般式(1)ユニットを分子内に重量比で0.01〜5重量%以下の範囲で有し、一般式(1)より構成される樹脂の酸価(KOH/mg)が5〜200である樹脂を20〜80重量%の範囲で含む硬化層と、少なくとも前記硬化層に隣接し重合度が1000以上のポリビニルブチラール樹脂又はポリブチラールの熱硬化樹脂からなる中間層又は/及び接着層を有することを特徴とする転写箔。一般式(1)(式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、R3は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。但し、R2がメチル基のときR3は水素原子である。Lは2価の連結基を表す。)
IPC (6件):
B42D 15/10 501 ,  B42D 15/10 531 ,  B41M 5/26 ,  B41M 5/40 ,  B41M 5/38 ,  G06K 19/077
FI (6件):
B42D 15/10 501 P ,  B42D 15/10 531 B ,  B41M 5/26 Z ,  B41M 5/26 H ,  B41M 5/26 101 H ,  G06K 19/00 K
引用特許:
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る