特許
J-GLOBAL ID：200903033970856898
加速度センサおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-288478
公開番号（公開出願番号）：特開平7-140166
出願日： 1993年11月17日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 高感度で、小型で、製造が容易な加速度センサおよびその製造方法を提供すること。【構成】 シリコン基板32とその上のノンドープのポリSiの活性層34の上に、n+ -ポリSiのソース電極36とドレイン電極38とを具えている。このソース電極36とドレイン電極38間の活性層34部分のチャネル領域44の上側には、空隙46を介してn+ -ポリSiのゲート電極48を具えており、通常のFET構造のゲート電極を絶縁膜を除いた構造を有している。このゲート電極48は、加速度が加わることにより変位してゲート電極48とチャネル領域44との間の距離を変化させる可動部を兼ねた片持梁となっており、その先端には重錘体50を具えている。
請求項（抜粋）：
下地にソース電極とドレイン電極とを具え、前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の前記下地部分のチャネル領域の上側に、空隙を介してゲート電極を具えた電界効果トランジスタ構造を有し、前記ゲート電極は、加速度が加わることにより変位して当該ゲート電極と前記チャネル領域との間の距離を変化させる可動部を兼ねてなることを特徴とする加速度センサ。
IPC (2件)：
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