特許

J-GLOBAL ID：200903033979272236

二水石膏の製造方法

発明者： 田井 伸男 ,  青木 英和 ,  一色 靖志 ,  佐藤 浩
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-033147
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228134
出願日： 1998年02月16日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、銅製錬排ガスより硫酸を製造するに際して発生する濃度の薄い廃硫酸や濃硫酸を原料として、石膏ボード用として使用可能な二水石膏を安定的に、且つ低コストで製造する方法の提供を課題とする。【解決手段】 廃硫酸あるいは濃硫酸と、中和剤としての炭酸カルシウム、消石灰、生石灰等のスラリーとを、反応スラリーのpHが2〜3となるように同時に添加する。具体的には、中和剤スラリー濃度を一定として反応槽に一定速度で供給し、廃硫酸あるいは硫酸の添加量を調節して反応スラリーのpHを2〜3に調節することにより石膏生成速度を一定とし、使用硫酸量に見合った量の石膏を系外に払い出すと共に常時種晶としての石膏スラリーを反応槽に繰り返し、系内の媒晶剤濃度を5〜10g/lとする。

請求項（抜粋）：

廃硫酸あるいは濃硫酸と、中和剤としての炭酸カルシウム、消石灰、生石灰等のスラリーとを、反応スラリーのpHが2〜3となるように同時に添加する二水石膏の製造方法において、中和剤スラリー濃度を一定として反応槽に一定速度で供給し、廃硫酸あるいは硫酸の添加量を調節して反応スラリーのpHを2〜3に調節することにより石膏生成速度を一定とし、使用硫酸量に見合った量の石膏を系外に払い出すと共に常時種晶としての石膏スラリーを反応槽に繰り返し、系内の媒晶剤濃度を5〜10g/lとすることを特徴とする二水石膏の製造方法。

IPC (2件)：

C01F 11/46 ,  C04B 11/26 ZAB

FI (2件)：

C01F 11/46 Z ,  C04B 11/26 ZAB