特許
J-GLOBAL ID:200903033983140530
窒化炭素の合成方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-357429
公開番号(公開出願番号):特開平11-189472
出願日: 1997年12月25日
公開日(公表日): 1999年07月13日
要約:
【要約】【課題】 窒化炭素を効率よく生成できる窒化炭素の合成方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、ターゲット11にレーザ光を照射させることによりレーザアブレーションを行い、窒化炭素を合成する窒化炭素の合成方法であって、ターゲット11として、アンモニウム化合物及び炭素質材料を含有する固形物を用いることを特徴とする。この発明によれば、アンモニウム化合物及び炭素質材料を含有する固形物のレーザアブレーションにより生成される不純物分子が低減され、生成される窒化炭素の割合が多くなる。
請求項(抜粋):
ターゲットにレーザ光を照射させることによりレーザアブレーションを行い、窒化炭素を合成する窒化炭素の合成方法であって、前記ターゲットを構成する材料として、アンモニウム化合物及び炭素質材料を含有する固形物を用いることを特徴とする窒化炭素の合成方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C04B 35/56 A
, C01B 31/30
前のページに戻る