特許

J-GLOBAL ID：200903033986376926

低レベルα線ガラスおよびその製造方法

発明者： 妹尾 龍也 ,  八田比佐雄
出願人/特許権者： 株式会社オハラ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-164105
公開番号（公開出願番号）：特開平6-345480
出願日： 1993年06月08日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、固体撮像素子等に用いられるカバーガラスに適したα線放出の少ない、低レベルα線ガラスおよびその製造方法を提供することにある。【構成】 重量百分率で、SiO2 50〜75%、B2O3 5〜25%、Al2O3 0〜3.5%、K2O 1〜25%、Na2O 0〜20%、Li2O 0〜5%、ただし、K2O+Na2O+Li2O 7〜25%、As2O3+Sb2O30〜1%、MgO、CaO、SrO、BaO、TiO2、PbO、ZnOをそれぞれ、0〜5%、および上記各金属元素の1種または2種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物の弗素(F)として0.5〜10%含有するガラス調合物を、1250〜1500°Cの温度で溶融することで得られ、かつ、該ガラスのα線量が0.02(count/cm2・hr)以下である。

請求項（抜粋）：

重量百分率で、SiO2 50〜75%、B2O3 5〜25%、Al2O3 0〜3.5%、K2O 1〜25%、Na2O 0〜20%、Li2O 0〜5%、ただし、K2O+Na2O+Li2O 7〜25%、As2O3+Sb2O3 0〜1%、MgO、CaO、SrO、BaO、TiO2、PbO、ZnOをそれぞれ0〜5%、および上記各金属元素の1種または2種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物の弗素(F)として0.5〜10%含有し、かつ、α線量が0.02(count/cm2・hr)以下であることを特徴とする低レベルα線ガラス。

IPC (3件)：

C03C 3/118 ,  C03C 3/115 ,  C03C 4/00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 硼珪酸ガラス組成
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-062567   出願人：ピルキントンピーエルシー