特許
J-GLOBAL ID:200903033989797850

ガス精製用の吸着塔および吸着塔内の吸着剤の再生処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司 ,  和田 憲治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-006316
公開番号(公開出願番号):特開2007-185617
出願日: 2006年01月13日
公開日(公表日): 2007年07月26日
要約:
【課題】吸着塔内の吸着剤の加熱再生,再生後の冷却を短時間で行ない,加熱再生時における吸着塔内の吸着剤の温度分布の不均一さを改善する。【解決手段】内筒21内には,吸着剤31を直接加熱するシースヒータ32が配置されている。内筒21の外周には,空隙dをあけて外筒22が配置されている。外筒22の上部外周には空隙dに通ずる上部通気孔22aが形成され,下部外周には空隙dに通ずる下部通気孔22bが形成されている。加熱再生時には,空隙d内に上昇気流が生じて,内筒21下部の熱を上部へと搬送し,内筒21内の温度分布が均一化される。【選択図】図5
請求項(抜粋):
ガス精製の際に使用される吸着剤を収納した吸着塔であって, 前記吸着剤を収納した内筒の外側に空隙をおいて設けられた外筒と, 内筒の内部に設けられて前記吸着剤を加熱するヒータと, 内筒の上端側に再生ガスを導入する再生ガス導入部と, 内筒に導入された前記再生ガスを内筒の下端側から排出するための再生ガス排出口と, 外筒の上端側に設けられ,前記空隙内に通ずる上部通気孔と 外筒の下端側に設けられ,前記空隙内に通ずる下部通気孔と, を有することを特徴とする,ガス精製用の吸着塔。
IPC (1件):
B01D 53/04
FI (2件):
B01D53/04 F ,  B01D53/04 G
Fターム (6件):
4D012CA07 ,  4D012CB16 ,  4D012CD01 ,  4D012CD05 ,  4D012CJ03 ,  4D012CK10
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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