特許

J-GLOBAL ID：200903033993493253

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 吉岡 均
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-019384
公開番号（公開出願番号）：特開平9-190969
出願日： 1996年01月10日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】【課題】 オプティカルインテグレータを用いた変形照明系を利用し、被照射面を均一に照明し高集積度の半導体デバイスの製造を容易にした投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 光入出射面を有し該光入射面で光源からの光を受け、該光出射面側に2次光源を形成する2次光源形成手段と、該2次光源からの光を物平面に照射する光照射手段と、光照射された該物平面上のパターンを像平面上に投影する投影手段とを有し、該2次光源の近傍に入射角度により透過率が異なるコーティングを施した光軸に対してなす角が変化する回動可能な光学素子を設け、該光学素子を回動させて該物平面上の照度分布を調整していること。

請求項（抜粋）：

光入出射面を有し該光入射面で光源からの光を受け、該光出射面側に2次光源を形成する2次光源形成手段と、該2次光源からの光を物平面に照射する光照射手段と、光照射された該物平面上のパターンを像平面上に投影する投影手段とを有し、該2次光源の近傍に入射角度により透過率が異なるコーティングを施した光軸に対してなす角が変化する回動可能な光学素子を設け、該光学素子を回動させて該物平面上の照度分布を調整していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 527