特許

J-GLOBAL ID：200903033995619181

電離放射線レジスト組成物とその使用方法

発明者： 並木 崇久 ,  矢野 映 ,  今 純一 ,  野崎 耕司 ,  小澤 美和
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-322374
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131909
出願日： 2000年10月23日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】【課題】 感度を維持しつつ解像性を向上した電離放射線レジスト組成物を提供する。【解決手段】 電離放射線レジスト組成物は、(a)電離放射線の照射により酸を発生する酸発生剤と、(b)アルカリ溶解性であり、酸の存在によってアルカリ現像剤に不溶化するレジスト材と、(c)アルカリ現像剤中でエステル解離を生じ、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基の少なくとも1つを遊離する添加剤とを含む。

請求項（抜粋）：

(a)電離放射線の照射により酸を発生する酸発生剤と、(b)アルカリ溶解性であり、酸の存在によってアルカリ現像剤に不溶化するレジスト材と、(c)アルカリ現像剤中でエステル解離を生じ、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基の少なくとも1つを遊離する添加剤とを含む電離放射線レジスト組成物。

IPC (10件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/101 ,  C08K 5/1545 ,  C08K 5/42 ,  C08K 5/51 ,  C08K 5/52 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (10件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/101 ,  C08K 5/1545 ,  C08K 5/42 ,  C08K 5/51 ,  C08K 5/52 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (26件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB28 ,  2H025CB30 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BG001 ,  4J002CC001 ,  4J002CC031 ,  4J002CD001 ,  4J002EH036 ,  4J002EH066 ,  4J002EL096 ,  4J002EV246 ,  4J002EW026 ,  4J002EW036 ,  4J002FD146 ,  4J002GP03 ,  4J002GQ00 ,  4J002GQ05