特許
J-GLOBAL ID：200903033995794366
投影光学系における基板の位置決定方法及び検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-079304
公開番号（公開出願番号）：特開平7-311012
出願日： 1986年11月07日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：
【要約】【目的】投影光学系の結像面に正確に基板を一致させる。【構成】斜入射AF系によってウエハW内の所定領域の高さ位置を求める。テレビカメラ56により投影レンズ18を介してウエハW上の所定領域とは異なる位置にあるマークを観察し、結像光路を可変として最もコントラストが高くなる信号から、合焦位置(基板の位置)を求める。マーク上のレジストは除去されており、マーク領域と所定領域とは高さ位置が異なる。この構造上に違いによる高さ位置の差をオフセットとして斜入射AF系に加える。
請求項（抜粋）：
マスク上のパターンを投影光学系を介して感光剤が塗布された基板上に投影する際、該パターンの結像光路と平行な方向の前記基板の位置を検出する基板の位置検出方法において、前記基板上の第1領域の前記方向の位置を検出する工程と、前記特定点とは異なる前記基板上の第2領域の前記方向の位置を検出する工程と、前記第1領域及び第2領域の前記方向の位置と、前記第1領域の位置と第2領域の位置とのオフセットとに基づいて前記第1領域の前記方向の位置を決定する工程とを有することを特徴とする基板の位置検出方法。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, H01L 21/027
, G03F 9/00
