特許
J-GLOBAL ID：200903034006134561
位相シフト露光マスクおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-345558
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186630
出願日： 1996年12月25日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】【課題】 半遮光膜の光透過率を任意に設定可能なものとすると共に、ステッパによるステップ&リピート露光時における隣接チップの影響を防止した位相シフト露光マスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の位相シフト露光マスクは透明基板1と遮光膜2とを有し、この透明基板1は所定の深さを有する凹部でもって、光透過領域1aを形成する。さらに、この凹部周縁の遮光膜2には所定の膜厚を有する半遮光領域2aを設ける。
請求項（抜粋）：
透明基板と、該透明基板に接する遮光膜とを有する位相シフト露光マスクにおいて、前記透明基板は光透過領域を形成する凹部を有し、前記遮光膜は前記透明基板の凹部周縁に、所定の膜厚の半遮光領域を有することを特徴とする位相シフト露光マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
