特許
J-GLOBAL ID：200903034008363495

基板検査方法および基板検査装置

発明者：
村上 清

村上 清 について

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浅野 靖典

浅野 靖典 について

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木下 崇

木下 崇 について

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四ッ谷 輝久

四ッ谷 輝久 について


出願人/特許権者：
オムロン株式会社

オムロン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 由充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-255009
公開番号（公開出願番号）：特開2006-099758
出願日： 2005年09月02日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】 被検査部位への検査領域の設定を高い精度で行えるようにして、検査の精度を高める。【解決手段】 検査対象の基板について、あらかじめ全体画像103を作成し、この全体画像103上の被検査部位に検査領域31を対応づけておく。検査時に、撮像対象領域30に対応する位置にカメラ3Aを位置決めして撮像し、処理対象画像40を取得すると、全体画像103上でこの処理対象画像40に対応する領域41を抽出し、この領域41の撮像対象領域30に対するずれ量Δx,Δyを算出する。さらに、検査領域31の設定位置をずれ量Δx,Δyを用いて補正し、この補正後の座標に基づき、処理対象画像40に検査領域を設定する。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
部品実装基板を撮像手段により撮像して得られた画像を用いて、前記基板上の複数の被検査部位に対する検査を実行する方法であって、準備のステップと検査のステップとを含み、 前記準備のステップには、前記撮像手段の視野が基板上の所定の領域に合わせられたときに得られる基準画像を取得するステップA;前記所定の領域に撮像手段を位置合わせするのに必要な撮像手段と基板との位置関係を取得するステップB;前記基準画像上の被検査部位に検査領域を設定するステップC;前記ステップAで取得した基準画像、前記ステップBで取得した撮像手段と基板との位置関係、およびステップCで設定された検査領域の基準画像に対する位置関係を、それぞれ対応づけて登録するステップD;の各ステップが含まれており、 前記検査のステップには、前記ステップDで登録された撮像手段と基板との位置関係に基づき、検査対象の基板に前記撮像手段を位置合わせして撮像を実行し、処理対象画像を作成する第1ステップ; 前記第1ステップで作成された処理対象画像を前記ステップDで登録された基準画像と照合して、基準画像に対する処理対象画像のずれ量を検出する第2ステップ; 前記ステップDで登録された検査領域と基準画像との位置関係を前記第2ステップで検出されたずれ量により補正し、その補正後の位置関係に基づき処理対象画像上に検査領域を設定する第3ステップ; 前記第3ステップで設定された検査領域内の画像データを用いて前記検査のための画像処理を実行する第4ステップ;の各ステップが含まれることを特徴とする基板検査方法。
IPC (1件)：
G06T 1/00
FI (1件)：
G06T1/00 305B
Fターム (18件)：
5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA11 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC03 ,  5B057DA02 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC02 ,  5B057DC33 ,  5B057DC36
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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