特許
J-GLOBAL ID:200903034009416215

メソポ-ラスなゼオライトの存在下に炭化水素を接触的選択的酸化する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江崎 光史 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-291134
公開番号(公開出願番号):特開2002-187885
出願日: 2001年09月25日
公開日(公表日): 2002年07月05日
要約:
【要約】【目的】メソポ-ラスなチタン含有ゼオライト触媒と接触させる、過炭化水素による炭化水素の選択的酸化を目指すものである。【構成】結晶性、メソポ-ラスなチタン含有ゼオライト触媒の存在下に、過酸化物との反応による炭化水素を接触的選択的に酸化する方法において、該ゼオライト触媒は、炭素マトリクス中でゼオライトを結晶化することより得られる、個々の、一次結晶からなり、ゼオライトタイプで測定された2θ範囲で8-30°の少なくとも一つのX-線粉末回析(XRPD) 反射を示すことを特徴とする。
請求項(抜粋):
結晶性、メソポ-ラスなチタン含有ゼオライト触媒の存在下に、過酸化物との反応による炭化水素化合物を接触的選択的に酸化する方法において、該ゼオライト触媒は、炭素マトリクス中でゼオライトを結晶化することより得られる、結晶内にメソポアを有する個々の、一次結晶からなり、そのゼオライト結晶は、ゼオライト型で測定され、2θ範囲で8-30°の少なくとも一つのX-線粉末回析(XRPD) 反射を示すことを特徴とする方法。
IPC (4件):
C07D301/12 ,  B01J 29/89 ,  C07B 61/00 300 ,  C07D303/04
FI (4件):
C07D301/12 ,  B01J 29/89 Z ,  C07B 61/00 300 ,  C07D303/04
Fターム (34件):
4C048AA01 ,  4C048AA04 ,  4C048BB02 ,  4C048BC01 ,  4C048CC01 ,  4C048XX02 ,  4G069AA02 ,  4G069BA07A ,  4G069BA07B ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069CB07 ,  4G069CB08 ,  4G069CB09 ,  4G069CB53 ,  4G069CB70 ,  4G069CB72 ,  4G069CB73 ,  4G069EC06X ,  4G069EC14Y ,  4G069EC15Y ,  4G069ZA10A ,  4G069ZA11B ,  4G069ZA37A ,  4G069ZA37B ,  4G069ZB02 ,  4G069ZD03 ,  4G069ZE06 ,  4G069ZE08 ,  4H039CA63 ,  4H039CA71 ,  4H039CC40 ,  4H039CC90 ,  4H039CL50
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭59-051273
  • 特開昭59-051273
引用文献:
審査官引用 (1件)

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