特許
J-GLOBAL ID：200903034030811620
金属帯の連続プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-295135
公開番号（公開出願番号）：特開平8-158038
出願日： 1994年11月29日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【目的】連続的に送給されるストリップに対して安定した低温プラズマを発生させ、要求される鋼中炭素濃度プロファイルを満足するように当該金属帯への低温プラズマ浸炭処理装置やこれを組合わせた連続焼鈍炉として使用可能とする。【構成】浸炭炉内に送給されるストリップSを支持するハースロール12を接地して主陰極とすると共に、ストリップSの両板面に対して平行な補助陰極13と,ストリップSの幅方向両側縁に対して平行に対向し且つ板面に対しては垂直な陽極14とで低温プラズマ電極対を構成し、炉の入出側に配設された減圧帯5,7によって炉内を所定圧力に減圧し、浸炭ガス及び前記陽極への印加電圧を可変制御して連続低温プラズマ浸炭処理を行う。この浸炭炉の出側には板温調節帯や冷却帯を配設して,固溶Cの拡散速度を制御可能とする。
請求項（抜粋）：
連続的に送給される金属帯をプラズマ処理する金属帯の連続プラズマ処理装置であって、前記金属帯を陰極とするための主陰極と、前記金属帯の幅方向端縁に対して平行で且つ当該金属帯の板面に対して垂直な陽極と、前記金属帯の板面に対して平行な補助陰極とを備えたことを特徴とする金属帯の連続プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
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