描画データ処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井桁貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-312265
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163373
出願日： 1992年11月20日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：

【要約】【目的】荷電粒子ビーム露光装置、例えば、電子ビーム露光装置を使用した描画を行うために作成された描画データを近接効果補正を行うことができるように処理する描画データ処理方法に関し、データ処理時間の短縮化を図ることができるようにし、しかも、描画時間の長大化をもたらさないようにする。【構成】描画データ上、電子ビーム描画領域1を小領域2に分割して、パターンが存在する小領域2には数値1、パターンが存在しない小領域2には数値0を割り当て、パターンが存在する各小領域2について、周囲の隣接した8つの小領域2に割り付られた数値を加算し、その加算値をドーズ量のランク値として割り当て、このランク値に応じてドーズ量を決定する。

請求項（抜粋）：

描画データ上、荷電粒子ビーム描画領域を、隣接する領域内のパターンにより近接効果が生じる規模の小領域に分割し、パターンが存在する各小領域ごとに、パターンが存在する隣接する小領域との関係を考慮して、描画データについて近接効果補正処理を行うことを特徴とする描画データ処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 506 , G03F 7/20 521

前のページに戻る