特許

J-GLOBAL ID：200903034034987863

支持棒誘導液相溶解法および支持棒誘導液相溶解装置

発明者： 星 博則
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-180928
公開番号（公開出願番号）：特開2000-009615
出願日： 1998年06月26日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】 薬液中の不純物の濃縮を短時間で行うことができ、基板上への取り残しおよび基板の外側に落下するのを防止することができる支持棒誘導液相溶解法および支持棒誘導液相溶解装置を提供する。【解決手段】 半導体ウェーハ4と支持棒1とを、ウェーハ4表面の不純物を溶解可能な薬液3を介して対向させ、薬液3をウェーハ4表面と線状に接触させる。ウェーハ4をその面に垂直な軸の回りに回転させ、薬液3をウェーハ4表面の全面と接触させる。薬液3にはウェーハ4表面の不純物が濃縮される。支持棒1を上げ、ウェーハ4表面から薬液3を離すと、薬液3は支持棒1の第2の溝1cを伝って第1の溝1bの位置に集まり、内部の不純物はさらに濃縮される。薬液3を空気で加圧してウェーハ4の中央に滴下させ、乾燥させた後、濃縮乾燥点6において全反射蛍光X線分析を行う。

請求項（抜粋）：

基板と支持棒とを上記基板の不純物を溶解することができる薬液を介して対向させ、上記基板と上記支持棒との間隙に上記薬液を保持しつつ上記基板と上記支持棒とを相対的に運動させることにより、上記薬液に上記不純物を濃縮させるようにした支持棒誘導液相溶解法において、上記基板と上記薬液とを線状に接触させるようにしたことを特徴とする支持棒誘導液相溶解法。

IPC (4件)：

G01N 1/28 ,  H01L 21/304 641 ,  H01L 21/66 ,  G01N 33/00

FI (4件)：

G01N 1/28 X ,  H01L 21/304 641 ,  H01L 21/66 L ,  G01N 33/00 A

Fターム (8件)：

4M106AA01 ,  4M106AA07 ,  4M106AB17 ,  4M106BA12 ,  4M106CB01 ,  4M106DH11 ,  4M106DH25 ,  4M106DJ06