特許

J-GLOBAL ID：200903034035986330

有機分子膜の製造方法および装置

発明者： 大野 公隆
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 西教 圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-027200
公開番号（公開出願番号）：特開2002-226997
出願日： 2001年02月02日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】 分子レベルで膜厚制御するとともに成膜速度を向上し、簡便に有機超格子膜を形成することができる有機分子膜の製造方法および装置を提供する。【解決手段】 電源11により電圧が印加された固体基板3を、その表面荷電と反対の荷電を有する有機分子イオンを含む溶液2に浸漬し、有機分子イオンを固体基板表面に吸着して有機分子膜の層を形成する工程に加え、層が形成された固体基板3に、吸着した有機分子イオンと同じ極性の電圧を印加し、その固体基板3を、純水14で洗浄後、印加電圧の極性と反対の荷電を有する有機分子イオンを含む溶液13に浸漬し、有機分子イオンを層表面に吸着して有機分子膜の層を積層する工程を、有機分子イオンを含む複数種の溶液のうち反対荷電を有する溶液を交互に用いて所要回数繰返す。

請求項（抜粋）：

導電性部位を有して外部より表面が荷電された固体基板を、その表面荷電と反対の荷電を有する有機分子イオンを含む溶液に浸漬し、有機分子イオンを固体基板表面に吸着して有機分子膜の層を形成することを特徴とする有機分子膜の製造方法。

IPC (3件)：

C25D 13/04 ,  C25D 9/02 ,  C25D 13/00 308

FI (3件)：

C25D 13/04 ,  C25D 9/02 ,  C25D 13/00 308 Z