洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梶原辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-215158
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045650
出願日： 1995年08月01日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【目的】金属汚染を防止できるシリコンウエハ洗浄装置の提供。【構成】アルカリ性洗浄液4の循環路13にシリコンから成る吸着剤22を収納した汚染金属除去装置20が介設されている。シリコンウエハ1を洗浄したアルカリ性洗浄液4が汚染金属除去装置20の吸着剤22を構成するシリコンに接触すると、シリコンは酸化されて酸化膜を形成する。この際、アルカリ性洗浄液に対する汚染金属5であって酸化膜エントロピーの大きいアルミニウムや鉄はシリコン酸化膜に取り込まれて吸着される。吸着された汚染金属5は洗浄液4に放出しないため、洗浄液4から汚染金属5は除去されたことになる。【効果】アルカリ性洗浄液中に汚染金属が蓄積されるのを防止できるため、洗浄時のシリコンウエハの金属汚染を防止できる。吸着剤は酸化膜をエッチングすることにより、再生できる。

請求項（抜粋）：

被洗浄物がアルカリ性洗浄液に晒されて洗浄される洗浄装置において、前記アルカリ性洗浄液に酸化され易く酸化物形成エンタルピーの大きな金属をその酸化膜中に取り込む物質から構成された吸着剤に前記アルカリ性洗浄液が晒されることにより、前記アルカリ性洗浄液中から酸化物形成エンタルピーの大きな金属から成る汚染物質が除去されることを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/08

FI (3件)：

H01L 21/304 341 L , H01L 21/304 341 T , B08B 3/08 A

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