特許
J-GLOBAL ID：200903034058855143
成膜及び触刻装置用セラミック素材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
綿貫 隆夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-332914
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158628
出願日： 1997年12月03日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：
【要約】【課題】 基材表面に異物が付着しにくく、かつ基材表面に付着した膜物質を剥離、脱落しにくくすることによって高度の清浄度、真空度を維持可能とする。【解決手段】 チャンバ内で使用する成膜及び触刻装置用セラミック素材10であって、前記セラミック素材10の基材が、気孔率が低く、緻密に焼成されて成るとともに、該基材の表面に、成膜及び触刻時に基材表面に被着する膜物質12をアンカー作用により支持する凹凸14が形成されたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
チャンバ内で使用する成膜及び触刻装置用セラミック素材であって、前記セラミック素材の基材が、気孔率が低く、緻密に焼成されて成るとともに、該基材の表面に、成膜及び触刻時に基材表面に被着する膜物質をアンカー作用により支持する凹凸が形成されたことを特徴とする成膜及び触刻装置用セラミック素材。
IPC (10件)：
C23C 14/50
, B01J 19/00
, B01J 19/08
, C04B 35/00
, C23C 14/00
, C23C 16/44
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H01L 21/68
C23C 14/50 Z
, B01J 19/00 K
, B01J 19/08 F
, C23C 14/00 B
, C23C 16/44 B
, C23F 4/00 Z
, H01L 21/205
, H01L 21/68 N
, C04B 35/00 H
, H01L 21/302 A
