特許
J-GLOBAL ID：200903034074717060
光ディスク基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-135053
公開番号（公開出願番号）：特開平8-329535
出願日： 1995年06月01日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【目的】 ピットを正確に転写し、表面にピット以外の凹凸欠陥がなく且つ吸湿による反りの少ない高密度記録容量を有する光ディスク基板を提供する。【構成】 全芳香族ジヒドロキシ成分の少なくとも20モル%が1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンであるポリカーボネート樹脂より実質的に形成され、該ポリカーボネート樹脂はその0.7g を塩化メチレン100mlに溶解した溶液の20°Cにおいて測定された比粘度が0.2〜0.5であり、該ポリカーボネート樹脂を用いて型締力10〜75トン、樹脂温度290〜360°C、金型温度100〜140°Cで射出成形することを特徴とする光ディスク基板の製造方法。
請求項（抜粋）：
全芳香族ジヒドロキシ成分の少なくとも20モル%が1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンであるポリカーボネート樹脂より実質的に形成され、該ポリカーボネート樹脂はその0.7g を塩化メチレン100mlに溶解した溶液の20°Cにおいて測定された比粘度が0.2〜0.5であり、該ポリカーボネート樹脂を用いて型締力10〜75トン、樹脂温度290〜360°C、金型温度100〜140°Cで射出成形することを特徴とする光ディスク基板の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 7/26 521
, C08G 64/06 NPT
, G11B 7/24 526
G11B 7/26 521
, C08G 64/06 NPT
, G11B 7/24 526 H
