特許

J-GLOBAL ID：200903034083270370

α-置換フェニル酢酸類の光学活性体の製造方法

発明者： 萩谷 弘寿 ,  原田 恵津子
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-102483
公開番号（公開出願番号）：特開平9-291060
出願日： 1996年04月24日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 容易かつ高収率でα-置換フェニル酢酸類の光学活性体を得ることのできるα-置換フェニル酢酸類の光学活性体の製造方法を提供する。【解決手段】 一般式1(R1 は水酸基、アルキル基、ハロアルキル基またはアルコキシ基、R2 は水素またはハロゲン、*は不斉炭素原子を示す。)のα-置換フェニル酢酸類を一般式2(R3 はアルキル基、アルコキシ基またはアラルキル基、R4 は水素、ハロゲンまたはアルコキシ基を示し、*は前記と同じ意味を示す。)の光学活性α-フェニルエチルアミン類を用いて一般式3R5 -O-R6 (3)(R5 はC1〜6のアルキル基を示し、R6 はC4〜6のアルキル基を示す。)のジアルキルエーテル中で光学分割するα-置換フェニル酢酸類の光学活性体の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(1)(式中、R1 は水酸基、アルキル基、ハロアルキル基またはアルコキシ基を示し、R2 は水素原子またはハロゲン原子を示し、*は不斉炭素原子を示す。)で示されるα-置換フェニル酢酸類を一般式(2)(式中、R3 はアルキル基、アルコキシ基またはアラルキル基を示し、R4 は水素原子、ハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、*は前記と同じ意味を示す。)で示される光学活性α-フェニルエチルアミン類を用いて一般式(3)R5 -O-R6 (3)(式中、R5 は炭素原子数1〜6のアルキル基を示し、R6 は炭素原子数4〜6のアルキル基を示す。)で示されるジアルキルエーテル中で光学分割することを特徴とするα-置換フェニル酢酸類の光学活性体の製造方法。

IPC (6件)：

C07C 57/30 ,  C07C 51/487 ,  C07C 57/58 ,  C07C 59/50 ,  C07B 57/00 346 ,  C07M 7:00

FI (5件)：

C07C 57/30 ,  C07C 51/487 ,  C07C 57/58 ,  C07C 59/50 ,  C07B 57/00 346