特許
J-GLOBAL ID：200903034098214795
フォトレジスト用剥離液組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
, 鈴木 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-251694
公開番号（公開出願番号）：特開2004-093678
出願日： 2002年08月29日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：
【解決手段】本発明のフォトレジスト用剥離液組成物は、基板上に形成されたフォトレジストからなるパターン状硬化物を、該基板から剥離させる際に用いられる剥離液組成物であって、前記剥離液組成物は、該組成物100重量%中に、N-メチルピロリドン60〜95重量%、ジエタノールアミンおよび/またはトリエタノールアミン1〜20重量%、テトラ(置換)アルキルアンモニウムヒドロキシド0.1〜5重量%、およびアルコール0.3〜20重量%の量で含有することを特徴とする。【効果】本発明によれば、厚膜のフォトレジストに対して優れた剥離性能を示し、また低温でも凝固せず、毒性や環境汚染の点でも優れているフォトレジスト用剥離液組成物を提供することができる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基板表面に形成されたフォトレジストからなるパターン状硬化物を、該基板から剥離させる際に用いられる剥離液組成物であって、
前記剥離液組成物は、該組成物100重量%中に、
N-メチルピロリドン 60〜95重量%、
ジエタノールアミンおよび/またはトリエタノールアミン 1〜20重量%、
テトラ(置換)アルキルアンモニウムヒドロキシド 0.1〜5重量%、およびアルコール 0.3〜20重量%
の量で含有することを特徴とするフォトレジスト用剥離液組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/42
, H01L21/30 572B
2H096AA25
, 2H096AA27
, 2H096BA01
, 2H096GA08
, 2H096LA03
, 5F046MA02
